English version

Formularz logowania

zarejestruj się


Drukuj

M. Biernat, G. Rokicki

Inhibicja tlenowa procesów fotopolimeryzacji i sposoby jej ograniczania

Polimery 2005, nr 9, 633


DOI: dx.doi.org/10.14314/polimery.2005.633


Streszczenie

W artykule przeglądowym omówiono mechanizm i kinetykę fotopolimeryzacji rodnikowej nienasyconych monomerów prowadzonej w obecności tlenu z powietrza. Przedstawiono czynniki wpływające na wartość inhibicji tlenowej oraz podstawowe sposoby jej ograniczania, m.in. zastosowanie osłon z gazu obojętnego, powłok ochronnych, barier z przezroczystych folii lub wosków parafinowych oraz użycie światła o dużej intensywności. Przedyskutowano fotopolimeryzację nienasyconych monomerów wykazujących zmniejszoną wrażliwość na inhibitujące działanie tlenu. Omówiono mechanizm fotopolimeryzacji układów zawierających monomery polarne i monomery zdolne do tworzenia wiązań wodorowych oraz zależność szybkości polimeryzacji od ich struktury. Opisano również podstawowe metody oznaczania wartości inhibicji tlenowej.


Słowa kluczowe: fotopolimeryzacja, inhibicja tlenowa, sposoby zapobiegania, związki allilowe, węglany cykliczne
M. Biernat, G. Rokicki (1.92 MB)
Inhibicja tlenowa procesów fotopolimeryzacji i sposoby jej ograniczania (cz. I)
M. Biernat, G. Rokicki (1.28 MB)
Inhibicja tlenowa procesów fotopolimeryzacji i sposoby jej ograniczania (cz. II)